Nikon razvio skener za imerzionu litografiju

Japanski Nikon je u četvrtak predstavio novi aparat za litografiju
koji bi trebalo da učvrsti lidersku poziciju ove kompanije u razvoju mašina
za izradu čipova. Nikon kaže da se radi o prvom skeneru za imerzionu litografiju
koji je već sada spreman za serijsku proizvodnju.
Ovaj 193 nm dvostepeni skener nosi oznaku NSR-S609B, a namenjen je proizvodnji
čipova u 55 nm i njihovom razvoju u 45 nm tehnologiji. Proizvođač kaže da je
ovaj skener u stanju da zahvaljujući njegovoj Local Fill tehnologiji obradi
preko 130 vafera na sat bez pojave vazdušnih džepova i sličnih defekata karakterističnih
za imerzionu litografiju.
Većina vodećih proizvođača čipova će na imerzionu litografiju preći pri proizvodnji
45 nm čipova, dok će TSMC i još neki proizvoditi čipove ovom metodom i u 65
nm procesu. Nikon se u razvoju alata za imerzionu litografiju takmiči sa kompanijama
kao što su ASML i Canon, a kompanija tvrdi da je u ovom trenutku u istraživanjima
daleko ispred njih. Holandski ASML u ovom trenutku razvija imerzioni skener
sa oznakom 1700i, dok će takav uređaj iz kompanije Canon biti spreman naredne
godine.

Izvor: EE Times