Benchmark Redakcija
Švajcarska firma Carl Zeiss SMT je isporučila prvi optički
sistem namenjen korišćenju pri ekstremnoj ultraljubičajstoj (EUV) litografiji
poznatom proizvođaču opreme za ovu namenu po imenu ASML Holding NV iz Veldhovena
u Holandiji. ASML će u bliskoj budućnosti sklopiti dva skenera za EUV litografiju
od kojih će jedan otići IMEC istraživačkom centru u Belgiji, a drugi Univerzitetu
Olbani u Nju Jorku.
EUV se zasniva na nevidljivoj svetlosti talasne dužine od svega 13 nm. Optički
sistem za rad sa ovakvom svetlošću se mora u potpunosti zasnivati na refleksiji,
pošto ni jedna supstanca nije transparentna za ovakvu svetlost. Refleksija se
obavlja uz pomoć ogledala načinjenih od velikoj broja naizmeničnih slojeva silicijuma
i molibdena, a nepravilnost na njima od svega par atoma je dovoljna da zrak UV
svetlosti ne bude pravilno fokusiran na vaferu.
Carl Zeiss se istraživanjem optike za upotrebu u EUV litografiji bavi već deset
godina i za tu svrhu je do sada izdvojio preko 100 miliona evra.
Izvor: EE Times
