Benchmark Redakcija
Taiwan Semiconductor Manufacturing Corp. (TSMC), veliki proizvođač
poluprovodnika sa središtem u Hsinčuu, Tajvan, planira da sredinom 2005. godine
počne sa proizvodnjom integrisanih kola u 65 nm procesu izrade koristeći tehniku
imerzione litografije. Ovo je najavio Burn Lin, visoki rukovodilac u TSMC koji
je 22 godine radio u IBM-u pre nego što je prešao u suparnički tabor. Kompanija
je naručila 193-nm imerzioni skener od Holandske firme ASML i planira da ga
u septembru instalira u svoje postrojenje Fab 12. Dok su se neki proizvođači
opredelili za "suvu" litografiju, TSMC će koristiti imerzionu jer
nudi znatno veću marginu u slučaju problema sa sočivom ili neravninama na vaferima.
Lin je rekao da veruje da se 193-nm litografija može primenjivati znatno duže
nego što se ranije mislilo. Katadioptrička sočiva i nove tečnosti sa većim indeksom
prelamanja bi možda mogli da toliko unaprede ovaj proces da uopšte ne bi bilo
potrebe za nabavkom 157-nm skenera, a čak bi i tehnologija ekstremne uljtraljubičaste
litografije bila nadmašena i verovatno nikad ne bi zaživela zbog visoke cene
razvoja i implamentacije. Lin kaže da je najteži zadatak pred njima pronalaženje
odgovarajuće tečnosti za potapanje sa indeksom prelamanja od 1,6 (voda ima 1,43)
i da za sada najviše obećava rastvor fosforne kiseline. Ukoliko bi se ovaj problem
prevazišao, TSMC bi mogao da ne menjajući proizvodne linije napravi integrisana
kola sa veličinom tranzistora od 22 nm.
Izvor: EE Times
