Istraživači Bečkog i Tehničkog Univerziteta Klaustal (Technische Universitaet
Clausthal) objavili su rezultate svog istraživanja koje pokazuje da je stroncijum-titanat
dobar kandidat za produženje Murovog zakona. Prema njihovim rečima silikon-dioksidni
sloj gubi svoju izolacionu sposobnost kada je tanak svega nekoliko atoma, a stroncijum-titanat
je delovao kao odlično rešenje, ali samo u teoriji. Korišćenjem kompjuterske simulacije
naučnici ovih univerziteta su uspeli da pronađu realnu mogućnost nanošenja nove
vrste oksida na silikonski vafer, čime bi se povećale performanse izgrađenih tranzistora.
Na priloženoj slici je šematski prikazano rešenje ovog fizičko-hemijsko-tehnloškog
problema.
Izvor: Theinquirer