Intel završio sa razvojem 32-nanometarske proizvodne tehnologije

32-nanometarski proizvodni proces će integrisati high-k + metal gate tehnologiju druge generacije, 193-nm immersion litografiju i druge napredne tehnike kada se radi o izradi tranzistora. Intel još uvek nije u potpunosti spreman za masovnu proizvodnju, ali će se i to desiti u određenom roku. Neže biti promena u veličini vafera - 32-nm čipovi

32-nanometarski proizvodni proces će integrisati high-k + metal gate tehnologiju druge generacije, 193-nm immersion litografiju i druge napredne tehnike kada se radi o izradi tranzistora. Intel još uvek nije u potpunosti spreman za masovnu proizvodnju, ali će se i to desiti u određenom roku. Neže biti promena u veličini vafera – 32-nm čipovi će se štampati na 300-milimetarskim vaferima. Priča se i o 450-milimetarskim vaferima, ali će njihova implementacija sasvim sigurno biti ostavljena za narednu deceniju. Na prezentaciji na kojoj će Intel zvanično objaviti ove podatke, koja će biti održana naredne nedelje, biće pokazan i unapređeni 291-Mb 32 nm SRAM čip, sa više od 1.9 milijardi tranzistora i radnim taktom od 3.8 GHz. Intel će pomenuti i neke stvari o 22-nanometarskoj CMOS tehnologiji. Prvi Intelov 32-nanometarski procesor, kodne oznake Westmere, će se pojaviti u četvrtom kvartalu 2009. godine. Izvor: TG Daily

Ostani u toku

Prijavi se na newsletter listu i jednom nedeljno cemo ti poslati email sa najnovijim testovima i vestima iz sveta tehnologije.

Hvala!

Uspešno ste se prijavili na na naš newsletter! Proverite vaš email nalog kako bi potvrdili prijavu.

Možda vam se svidi