U Irskoj počinje masovna proizvodnja Intel 4 čipova korišćenjem EUV procesa

Kompanija Intel u Irskoj počinje masovnu proizvodnju čipova na svom Intel 4 proizvodnom procesu po prvi put koristeći EUV litografiju i to na tlu Evrope

U Irskoj počinje masovna proizvodnja Intel 4 čipova korišćenjem EUV procesa

Irska Intel fabrika biće prvi evropski objekat koji koristi tehnologiju litografije sledeće generacije za komercijalnu proizvodnju. Ovo će se desiti zahvaljujući tome što Intel u Irskoj počinje masovnu proizvodnju čipova na Intel 4 ( 7 nm) proizvodnom procesu, svom prvom koji koristi ekstremnu ultraljubičastu (EUV) litografiju.

Dizajner i proizvođač čipova iz Santa Klare danas održava događaj sa rukovodiocima kompanije kako bi obeležili zvanični dolazak Intel 4 proizvodnog procesa u irsku fabriku, koji će se inače koristiti za proizvodnju proizvoda kao što su predstojeći Meteor Lake procesori.

Intel tvrdi da je nova proizvodna tehnologija u njenom pogonu „budućnost drugih Intel proizvoda“, uključujući procesore za jačanje veštačke inteligencije i poboljšane serverske čipove za pokretanje centara podataka. Uz to, Intel tvrdi da uvođenje Intel 4 procesa drži kompaniju na pravom putu da isporuči pet novih proizvodnih procesa u naredne četiri godine i „povrati vođstvo u procesu do 2025. godine“, piše TheRegister.

Intel u Irskoj potrošio 18 meseci samo na projektovanje i pripremu fabrike za Intel 4 čipove

Iako je razvoj i rana proizvodnja Intel 4 procesa obavljena na kompanijskim lokacijama u Oregonu u SAD, fabrika u Likslipu u Irskoj je prva lokacija za proizvodnju velikog obima čipova za ovaj proizvodni proces.

Intel je saopštio da je potrošio 17 milijardi evra na udvostručenje dostupnog proizvodnog prostora u poslednjih nekoliko godina. Pomenuti proces kompaniji će, kako tvrdi, omogućiti poboljšanje performansi po vatu od čak 20 posto u odnosu na proizvode koji su nastali u Intel 7 (10 nm) proizvodnom procesu sa njegovim Enhanced SuperFin tranzistorima.

Intel 4 je omogućen zahvaljujući tehnologiji EUV litografije koja može da definiše karakteristike čipa preciznije od prethodne opreme koja se zasnivala na dubokoj ultraljubičastoj (DUV) litografiji. Koristeći svetlo talasne dužine 13,5 nanometara, Intel kaže da može da smanji broj ukupnih potrebnih koraka proizvodnje.

Pomenutu EUV opremu trenutno proizvodi samo jedna kompanija na svetu, holandski ASML, a Intel je prošle godine najavio prvi isporuku ove opreme za opremanje svoje irske fabrike. U to vreme kompanija je to opisala kao „verovatno najkomplikovaniji deo mašinerije koju su ljudi ikada napravili“, te da je bilo potrebno 18 meseci projektovanja i izgradnje da se zgrada pripremi za prijem mašina.

Drugi proizvođači čipova, kao što je najpoznatiji, tajvanski TSMC već neko vreme koristi EUV mašine. Međutim, nedavno su se pojavile vesti da ova kompanija zaustavlja neke od isporuka napredne opreme zbog neizvesnih tržišnih uslova.

Ostani u toku

Prijavi se na newsletter listu i jednom nedeljno cemo ti poslati email sa najnovijim testovima i vestima iz sveta tehnologije.

Hvala!

Uspešno ste se prijavili na na naš newsletter! Proverite vaš email nalog kako bi potvrdili prijavu.

Možda vam se svidi