- Nauka i tehnologija
- 4 min
Japan na ivici revolucije u proizvodnji čipova koristeći EUV litografiju
Japanski institut OIST razvija novu EUV litografsku opremu koja može smanjiti troškove proizvodnje čipova i prekinuti monopol ASML-a na tržištu
Japanski institut OIST razvija novu EUV litografsku opremu koja može smanjiti troškove proizvodnje čipova i prekinuti monopol ASML-a na tržištu
ASML-ova najnovija tehnologija smanjuje veličinu TSMC tranzistora za 66% i omogućava napredniju proizvodnju čipova, poboljšavajući energetske performanse
Ako dođe do vojne invazije, kompletna fabrika zajedno sa najsavremenijim TSMC EUV opremom biće onesposobljena za dalji rad, tvrdi predsednik kompanije TSMC, Mark Liu
Sve ASML High-NA EUV litografske mašine za proizvodnju čipova koje će holandska kompanija napraviti do polovine sledeće godine, Intel je rezervisao za sebe
ASML nedavno je lansirao najnoviju tehnologiju za proizvodnju čipova – treću generaciju ekstremne ultraljubičaste litografije (EUV) – Twinscan NXE:3800E alat
Najnoviji video koji je objavila kompanija Intel se može nazvati najveći „unboxing“ u istoriji jer je u pitanju otpakivanje EUV litografske mašine koja se koristi u proizvodnji procesora, vredne preko 400 miliona američkih dolara
Canon planira da ove godine počne prodaju niskotarifne mašine za proizvodnju čipova, zasnovane na tehnologiji litografije nanootiska
Iako je Kini, sankcijama SAD, ograničen pristup naprednoj opremi za proizvodnju čipova, kompanija SMIC aktivno radi na 3 nm čipovima, pišu azijski mediji
Bivši TSMC potpredsednik, kog još nazivaju i „čip guru“ Burn Dženg Lin veruje da Huawei može da pravi 5 nm čipove, ali će to sa DUV opremom biti veliki trošak
Novi izveštaj tvrdi da je SMIC koristio ASML EUV mašinu kako bi kreirao Huawei Kirin 9000s 5G sistemski čip
Kompanija Canon izaziva ASML, najpoznatijeg svetskog proizvođača EUV mašina za proizvodnju čipova, jer ulazi na njegov teren sa potpuno drugačijom tehnologijom
Kina uskoro ostaje bez pristupa najnovijim tehnologijama za proizvodnju čipova, što će imati ozbiljne posledice po njihovu proizvodnju, ali i svetsko tržište.
Ovaj patent sugeriše da bi, uz adekvatnu opremu, sa EUV skenerom Huawei mogao da proizvodi čipove manje od 7 nm i tako preskoči uvedene sankcije.